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等離子清洗機是一種干法物理化學清洗設備。它是利用低真空狀態下工藝氣體因電場的作用，產生輝光放電，將工藝氣體電離成離子流，轟擊工件表面，使其產生物理化學反應，達到清洗目的。等離子清洗機按其等離子激發頻率可分為：中頻(40KHz)、射頻(13.56MHz)和微波(2.45GHz)三種等離子清洗，隨著頻率的升高，離子濃度增大，離子能量下降。

等離子清洗機不同頻率粒子能量和粒子密度隨電場頻率關系的變化

圖1-1是等離子清洗機的粒子能量和粒子密度隨電場頻率變化的關系，從圖中可以清晰地看出粒子密度與電源頻率成正比關系，而粒子能量與之相反與電源放電頻率成反比關系。當頻率為13.56MHz時粒子能量與粒子密度相對平衡，由此可知國際通用射頻電源頻率的由來。

圖1-1 等離子清洗機不同頻率粒子能量和粒子密度隨電場頻率關系的變化

低頻、射頻和微波等離子清洗機三種放電形式的等離子體參數比較見表1.1。

表1.1不同放電形式的等離子體參數比較

不同頻率的等離子體與材料的反應機理也不相同，表1.2列舉了三種不同等離子體的各項因素指標與反應機理。

表 1.2 常用的三種等離子體

等離子清洗機不同放電頻率的優缺點對比

a）激發頻率為40kHz激發的等離子體為中頻等離子體，其等離子體密度比較低；主要發生物理反應，40kHz的等離子體會改變被清潔表面性質，容易對產品表面造成電子損傷，主要是應用在污染比較重而且不容易受到電子損傷的。

b）激發頻率為13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，其等離子體的密度，具有的能量較高；，既發生化學反應也發生物理反應，大多應用在半導體的生產過程，清洗作用介于其他兩種頻率激發的等離子體之間。

）激發頻率為2.45GHz的等離子體為微波等離子體，微波等離子體具有高密度、高電離度、大體積、均勻、無電極污染、運行氣壓低、設備簡單、參數易于控制等優點，其等離子體的離子濃度是三種中最高，主要發生化學反應，可以用在一些敏感元器件的清洗。

總的來說，不同頻率的等離子清洗機在清洗效果和適用范圍上各具特點。在選擇時，需要根據具體的清洗需求和材料類型來確定合適的頻率。同時，還需要注意調整其他參數如功率和氧氣流量等，以優化清洗效果。