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等離子清洗機作為一種干法清洗設備，具有污染物去除效率高、清洗表面無損傷以及實現復雜裝置中零件的在位清洗等優勢，是未來非常有前景的清洗技術。那么等離子清洗機的工作原理是什么呢？下面就為大家介紹一番。

為滿足產業界的需求，人們根據電子加熱方式的不同，研制出了諸多不同類型的等離子體源。這些等離子體源主要包括通過靜電加熱產生等離子體的容性耦合等離子體源(capacitively coupled plasma，CCP)、通過感應電場加熱的感應耦合等離子體源(inductively coupled plasma，ICP)、通過螺旋波線圈加熱的螺旋波等離子體源(helicon wave plasma，HWP)、通過微波加熱產生等離子體的ECR等離子體源(electron cyclotron resonance，ECR)。根據不同的等離子體源，從而產生了不同的等離子清洗設備，如射頻等離子清洗機，微波等離子清洗機等。

不同等離子清洗機的工作原理都不太一樣，但是都可以歸結為是通過對氣體放電從而產生等離子體的裝置。下面為大家講講市面上最常見的真空等離子清洗機工作原理。

等離子清洗機的工作原理如下：

市面上最常見的等離子清洗機大都采用容性耦合等離子體發生方式CCP，CCP由真空腔室和兩個正對放置的電極構成，類似于平行板電容器，因此CCP也是結構最為簡單的低溫等離子體源。通常情況下，CCP的一個電極接地，稱為接地極；另一電極接射頻電源，稱為電源極。射頻頻率一般為兆赫茲量級。在實際放電中，射頻電源與放電腔室之間會連接一個匹配電路，用于保護電源和調節功率匹配，如圖1.1所示，這便是大部分真空等離子清洗機的工作原理圖。

等離子清洗機工作原理圖

真空等離子清洗機主要由以下幾個部分組成：反應腔室、控制系統、射頻電源及匹配電路以及真空系統組成，其結構如圖1.2所示。

等離子清洗機工作原理是通過真空泵將真空腔體抽至10Pa左右的真空度，然后向真空腔體中通入氬氣或者氧氣等反應氣體，當真空度約為10~100Pa時開啟射頻電源，調節射頻匹配電源，起輝形成等離子體。在真空狀態下，因為氣壓較小，分子間的間距變大，從而使得分子間的作用力變小，利用射頻電源產生的高壓交變電場將氧、氬氣等工藝氣體震蕩成具有高能量或者高反應活性的離子，與有機污染物或者微顆粒反應、碰撞形成揮發性物質，揮發性物質由工作氣流從真空泵排出去從而達到清洗的目的。

以上就是關于容性耦合（CCP）等離子清洗機的工作原理是什么的簡單介紹，等離子清洗通過復雜的物理和化學過程來去除材料表面的污染物，采用這種方法能夠提升材料的粘附性與濕潤性，且等離子體清洗技術無需任何化學試劑，具有成本低，對環境和人員的影響小等優勢。