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狹縫涂布法在制備高精度薄膜方面得到了較為廣泛的應用。狹縫涂布法是一種精密的涂布技術，工作原理為涂布液在受到壓力的情況下沿著涂布機模頭的縫隙噴出涂覆在基材表面。與其他涂布方式相比較，它有許多優點，例如可以以較快的速度進行涂布，涂布精度較高、涂出的濕膜膜厚較為均勻等。在進行狹縫涂布過程中系統封閉，可以阻止污染源的進入，涂布液利用率較高，并且能夠保持涂布液性質的穩定。通過控制速率，精密計量等方法來實現精準涂布。它是半導體顯示光學薄膜應用中更具前景的涂布方法。

狹縫涂布示意圖

在進行狹縫涂布前，為保證光學薄膜的質量，需要對基材進行預處理來保證基材表面的潔凈度，傳統的清洗方法主要分為干法清洗和濕法清洗兩種類型。濕法清洗是通過使用某種溶液實現對基材的清洗過程，一般包括蒸汽清洗、溶液浸泡和旋轉噴淋等方式。然而這些方式都會有引入新雜質的風險，并且還要針對廢液做特定處理，為避免對環境造成污染，所以一般不采用濕法清洗。干法清洗由于控制精準不會造成二次污染近些年已經被廣泛的應用于工業領域。干法清洗中發展較為迅速的是等離子清洗。

等離子清洗是通過電源電離氣體產生等離子體，等離子體具有較大的能量，將其作用于基材表面可以去除基材表面的污漬，提高基材表面的活性。并且處理后的基材，其表面附著能力也會變得更強，這是因為等離子清洗后的基材表面可以賦予其羥基，由于羥基是親水性基團，因此可以使漿料更好的涂覆在基材表面。。

光學薄膜狹縫涂布前，用等離子體清洗機清洗成膜的基底表面污漬，防止薄膜因為基底不干凈的原因導致薄膜與基底粘附力差；目的是去除基底表面的一些臟污和雜質及提高基底表面的活化性能，從而提高漿料在基底上成膜的均勻性、粘附性。