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隨著溫度的上升物質的存在狀態一般會呈現出固態液態氣態三種物態的轉化過程我們把這三種基本形態稱為物質的三態。那么對于氣態物質溫度升至幾千度時由于物質分子熱運動加劇相互間的碰撞就會使氣體分子產生電離，這樣物質就變成由自由運動并相互作用的正離子和電子組成的混合物。我們把物質的這種存在狀態稱為物質的第四態它與固態、液態和氣態物質比較有不同的物理和化學性質。

等離子體清洗技術包括輝光放電等離子體清洗、電暈放電等離子體清洗、介質阻擋放電等離子體清洗、滑動電弧放電等離子體清洗、等離子體弧清洗技術。

輝光放電等離子體清洗：輝光放電屬于低氣壓放電工作壓力一般都低其構造是在封閉的容器內放置兩個平行的電極板利用電子將中性原子和分子激發當粒子由激發態降回至基態時會以光的形式釋放出能量。電源可以為直流電源也可以是交流電源。每種氣體都有其典型的輝光放電顏色熒光燈的發光即為輝光放電。目前的應用范圍在實驗室、半導體工業等。

電暈放電等離子體清洗：輝光放電只能在低氣壓下工作而電暈放電可以在大氣壓下工作但需要足夠高的電壓以增加電暈部位的電場。一般在高壓和強電場的工作條件下不容易獲得穩定的電暈放電亦容易產生局部的電弧放電。為提高穩定性可將反應器做成非對稱的電極形式。電暈放電反應器的設計主要參考電源的性質而有所不同有直流電暈放電和脈沖式電暈放電。由于電暈放電的范圍小、能量低、放電的能量不均勻通常應用范圍僅局限于實驗室。利用電暈放電可以進行靜電除塵、污水處理、空氣凈化等。

介質阻擋放電等離子體清洗：介質阻擋放電是有絕緣介質插入放電空間的一種非平衡態氣體放電又稱介質阻擋電暈放電或無聲放電。介質阻擋放電能夠在高氣壓和很寬的頻率范圍內工作通常的工作氣壓為少一護。電源頻率可從至。電極結構的設計形式多種多樣。在兩個放電電極之間充滿某種工作氣體并將其中一個或兩個用絕緣介質覆蓋也可以將介質直接懸掛在放電空間或采用顆粒狀的介質填充其中當兩電極間施加足夠高的交流電壓時電極間的氣體會被擊穿而產生放電即產生了介質阻擋放電。在實際應用中管線式的電極結構被廣泛的應用于各種化學反應器中而平板式電極結構則被廣泛的應用于工業中的高分子和金屬薄膜及板材的改性、接枝、表面張力的提高、清洗和親水改性中。

滑動電弧放電等離子體清洗：電源在兩電極上施加高壓引起電極間流動的氣體在電極最窄部分電擊穿。一旦擊穿發生電源就以中等電壓提供足以產生強力電弧的大電流電弧在電極的半橢圓形表面上向右膨脹不斷伸長直到不能維持為止。電弧熄滅后重新起弧周而復始。視覺上滑動電弧放電等離子體就像火焰一般但其平均溫度卻比較低即使將餐巾紙放在等離子體焰上也不會燃燒。滑動電弧放電等離子體通常應用于材料的表面處理。

等離子體弧清洗：利用等離子體弧為介質的一種等離子體清洗技術清洗所需要壓縮電弧靠等離子發生器產生。在等離子發生器中圓柱形陰極尖端和與其同心的漏斗狀陽極配置構成電弧室切向或軸向送進的工作氣體流經噴嘴中的電弧時發自陰極的電子與氣體分子或原子相互作用使氣體離解或電離工作氣體在電弧區被加熱并在徑向、軸向膨脹加速噴出噴嘴形成等離子射流照射被清洗物體表面從而清除污染物。

上述幾種等離子體清洗技術屬于冷等離子清洗技術它的機理是主要依靠處于“等離子態”的物質的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。從目前各類清洗方法來看可能等離子體清洗也是所有清洗方法中最為徹底的剝離式的清洗。