產品簡介
微波等離子體清洗機是一種利用微波能量產生等離子體來對物體表面進行清洗的先進設備，可去除有機物、光刻膠、無機物、氧化層等多種污染物，可對硅晶圓、金PAD、鋁PAD等表面進行清洗，該清洗機具有操作方便、效率高、表面干凈、無劃傷、有利于確保產品質量等優點。清洗過程中不產生空氣污染,也沒有廢液、廢渣產生,是真正的節約能源,降低成本。
產品參數
| 型號 | NE-MW100 |
| 等離子發生器 | 固態功率源1000W連續可調 |
| 頻率 | 2.45GHz |
| 腔體材質 | AL6061，軍工級密封 |
| 載物臺尺寸 | Φ270mm |
| 腔體容積 | 480(W)*505(D)*410(H)mm; 100L |
| 晶圓托盤工作臺 | 可水平旋轉，連續旋轉、90°間歇旋轉和180°間歇旋轉 |
| 處理能力 | 單次最大處理6片（8/10英寸硅晶圓） |
| 泄露率 | ≤5e-10 Pa·m3/s |
| 氣體流量控制器 | MFC氣體質量流量計/500SCCM/氣路 |
| 氣路數量 | 配置2路工藝氣路，可支持氧氣，氬氣，氮氣，氫氣、氬氫混合氣體等 |
| 流量控制精度 | 優于±2% |
| 氣壓波動 | ≤±5% |
| 真空測定系統 | 配備電控氣動真空閥和皮拉尼真空計，測量范圍：5×10 -2 ～1.0×10 5 Pa ，測量精度：1Pa |
| 真空泵 | 干式真空泵：80m3/h |
| 最大工作噪音 | ＜65dB（1m范圍內） |
| 工作真空度 | 20-40PA |
| 抽真空時間（20PA） | ≤90s以內 |
| 極限真空 | ≤5Pa |
| 控制方式 | PLC+工控機 |
| 顯示屏 | 12英寸 |
| 等離子處理效果 | 清洗后水滴角<15°，同批次晶圓，任意晶圓的任意位置水滴角差≤±5°，批次間水滴角差≤±5°（8inch硅晶圓） |
| 電源供應 | AC380V,50/60Hz，三相五線100A |
| 外形尺寸 | 1200(W)×1200(D) ×1800(H) mm |
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