產(chǎn)品簡(jiǎn)介
小型真空等離子清洗機(jī)是一種專用于表面清潔和改性的高精度設(shè)備,其核心原理是利用等離子體技術(shù)高效去除物體表面的有機(jī)或無(wú)機(jī)污染物,并實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面特性的優(yōu)化。該設(shè)備通過引入高能離子源(通常為氫氣、氧氣、氦氣等氣體),在加熱或電場(chǎng)作用下激發(fā)氣體分子,使其電離形成等離子體。這些等離子體由高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子組成,具有極高的化學(xué)活性。在電場(chǎng)的作用下,等離子體中的活性粒子以高速撞擊待清洗物體的表面,通過與污染物分子發(fā)生物理轟擊或化學(xué)反應(yīng),將其分解為揮發(fā)性小分子或直接剝離,從而實(shí)現(xiàn)表面的深度清潔。除了清潔功能,等離子清洗機(jī)還能在一定程度上改變材料表面的物理化學(xué)特性。例如,通過選擇不同的工作氣體和處理參數(shù),可以在材料表面引入特定的官能團(tuán),從而增強(qiáng)其潤(rùn)濕性、附著力或生物相容性。這種表面改性功能在微電子制造、光學(xué)器件、生物醫(yī)學(xué)材料等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用價(jià)值。
產(chǎn)品參數(shù)
| 等離子體發(fā)生器 | 采用NAENTECH新一代放電專利射頻離子源，頻率偏移量＜0.2KHz，功率0-300W連續(xù)可調(diào)，自動(dòng)阻抗匹配； |
| 真空反應(yīng)腔室 | 材質(zhì)316不銹鋼，軍工級(jí)密封；腔體容積10.8L；腔體尺寸200(W)*270(D)*200(H)mm；單層有效處理面積176(W)x210(D)mm；電極數(shù)量2個(gè)鍍金鋁合金專用電極+2個(gè)鋁合金托盤；處理層數(shù)3層；單層間距，H:40mm； |
| 氣路控制 | 配置MFC質(zhì)量流量控制器，量程0-500 SCCM；氣路數(shù)量，2路氣體，支持氧氣，氬氣，氮?dú)猓瑲錃獾龋?/td> |
| 真空計(jì) | 皮拉尼真空計(jì)，測(cè)量范圍：5×10-2 ～1.0×105 Pa；測(cè)量精度:0.1Pa； |
| 抽氣系統(tǒng) | 真空泵抽速:8m'/H，配油霧過濾器，極限真空度1PA，降噪減震設(shè)計(jì)，全金屬連接耦合系統(tǒng)；真空管路配置不銹鋼管路+氣動(dòng)閥門； |
| 控制系統(tǒng) | 全觸摸屏7寸，氣體流量和真空度可實(shí)時(shí)精準(zhǔn)顯示與控制，控制方式PLC；實(shí)時(shí)監(jiān)控功率、工作時(shí)間；自主專利設(shè)計(jì)等離子控制系統(tǒng)，自動(dòng)、手動(dòng)模式，IO監(jiān)控；真空防呆、功率防呆、電機(jī)過熱報(bào)警；支持通入工藝氣體，先進(jìn)行壓強(qiáng)平衡，可設(shè)置平衡時(shí)間。 |
| 場(chǎng)務(wù)條件 | 電源供應(yīng)220V 5A；氣管接口直徑6mm；氣體純度99.99%；氣體壓力0.4-0.6Mpa；排氣口KF25。 |
| 整機(jī)參數(shù) | 整機(jī)功率1300W；外形尺寸，528mm(L)×510.5mm(W)×513 mm(H)。 |
等離子技術(shù)
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